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0571-88682681

考夫曼离子源
产物概况

离子光学体系(xi)-栅网

双钼栅变孔布局,较大离子流较好的(de)平均(jun)性;

屡次低温定型处置(zhi),保障长时候任务较小的变形量(liang)


离子源:


多极会切(qie)磁场(chang)设想,取(qu)得(de)较大的无场(chang)区,下降功耗

中(zhong)和电流可追(zhui)踪,保障(zhang)充实中(zhong)和,防止刻蚀绝缘器件的电荷堆集


电源体系(xi):


全部字主动(dong)电源,撑持(chi)手动(dong)节制及485通(tong)信接口

偏置及屏极束流(liu)的(de)跟踪、反应,构成闭环节制;

可(ke)存储3组(zu)工艺参数,一(yi)键(jian)启动

液晶屏显现毛(mao)病状况,如(ru)短路、欠(qian)压、灭弧等

过压(ya)、过流(liu)限(xian)定,许可持久短(duan)路而不会破坏电源(yuan)

帮助离子源规格:6cm,12cm,16cm,20cm

溅射离子(zi)源规格:8cm,16cm

刻蚀离子源规格:6cm,16cm,20cm,22cm


其余规(gui)格请接洽我司


范例

 刻蚀离子源

束流口径

6cm

16cm

20cm

22cm

有用(yong)直径

≥4cm

≥10cm

≥15cm

≥16cm

平均性(xing)

≤+/-5%(4cm规模内(nei))

≤+/-5%(10cm规模内)

≤+/-5%(15cm规模内)

≤+/-5%(16cm规模内)

最大束(shu)流(liu)

60mA

150mA

300mA

320mA

束压

100~1000eV

100~1000eV

100~1000eV

100~1000eV

任务真空

1×10-2~4×10-2Pa

1×10-2~4×10-2Pa

1×10-2~4×10-2Pa

1×10-2~4×10-2Pa

漏率

≤6.6×10-8Pa l/s

≤6.6×10-8Pa l/s

≤6.6×10-8Pa l/s

≤6.6×10-8Pa l/s

任(ren)务气体

Ar(1~10sccm)

Ar(1~20sccm)

Ar(1~25sccm)

Ar(1~30sccm)

冷(leng)却水(shui)


≥0.5m3/min

≥0.5m3/min

≥0.5m3/min

供电请(qing)求(qiu)

220V AC单相

220V AC单相

220V AC单相

220V AC单相

中和体例(li)

钨丝

钨丝

钨丝

钨(wu)丝

通信接口

485

485

485

485

装置体(ti)例

外(wai)装置

外装置

外装置(zhi)

外(wai)装置



地点:浙江省杭州市余杭区粮站路11号智能制作立异创业财产园2号楼2楼
接洽德律风:0571-88682681
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