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美国KRI离子(zi)源
美国KRI离子源
产(chan)物(wu)概况

先容:

1978 年考夫曼博(bo)士在美国创建 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发出产考夫(fu)曼离(li)子(zi)源 和霍尔离子源 . 美国考(kao)夫曼离子源历经 40余(yu)年(nian)积淀(dian)及成(cheng)长已(yi)获得客(ke)户的极大承认(ren)。离(li)子源普遍用于离(li)子洗濯, 离子蚀刻, 帮(bang)助镀膜(mo), 离子溅(jian)射堆积范畴

手艺参(can)数(shu)

KRI 霍尔离(li)子源 Gridless eH 系(xi)列

eH 系列霍(huo)尔(er)离子源布(bu)局松(song)散, 束流大、能量低,辐照面积大,能够(gou)有(you)用地以纳米精度来处置薄膜及(ji)外表, 为工(gong)艺(yi)进(jin)程(cheng)供给帮助镀膜(mo),预洗(xi)濯等(deng)多种功效,丰硕的型号知足科研、财产等(deng)多种利用,具备


以下特色:

无栅网

高电流(liu)低能量(liang)

发(fa)散光束 >45

可(ke)疾(ji)速(su)改(gai)换阳极模块


多种中和器(qi)可(ke)挑选


美国 KRI 考夫曼离(li)子(zi)源 Gridded KDC 系列


美(mei)国 KRI 考夫(fu)(fu)曼(man)公司(si)的考夫(fu)(fu)曼(man)离子源 KDC 系列(lie)包罗多种差别(bie)尺(chi)寸(cun)的离(li)子源,知足(zu)各种利用. 考夫曼离(li)子源 KDC 供给(ji)一(yi)套完全的计(ji)划包(bao)罗考夫曼离子源, 电子中和器, 电源供给器等(deng)(deng)等(deng)(deng),能够间(jian)接整合在各种真空装备中, 比方尝试室小型研发, 镀(du)膜机, load lock, 溅射体系, 卷绕镀膜机(ji)和线性镀膜.

KRI 射频离(li)子源 Gridded RFICP 系(xi)列

射频离子源 RFICP 系列,经(jing)由过程射(she)频线(xian)圈发(fa)生等离子体, 由栅网(wang)节制离子束的(de)能(neng)量和标(biao)的(de)目(mu)的(de), 是制作紧密薄膜和外表处置(zhi)的得力东西(xi), 有用改良膜层致密性、光透射(she)、平均性、附出力等为工艺供给不变撑(cheng)持。

RFICP系(xi)列供给(ji)完全的产物组合, 包(bao)罗离子(zi)源(yuan), 电子供给(ji)器, 中和器, 电(dian)源(yuan)节(jie)制等


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